HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源
High Power Impulse Magnetron Sputtering
HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源被廣泛應用于各類PVD工藝，用來制備高端金屬裝飾膜,功能膜和類金剛石(DLC)膜層等。相較于中頻磁控濺射電源，HiPIMS有著離化率高，繞鍍性好，膜層致密性好，成膜色澤優(yōu)異等特點。HiPIMS最典型的應用包括對膜層致密性要求高的各類功能膜和硬質膜，iPhone的玫瑰金手機殼，高端手表表殼等。行業(yè)領先的精新HiPIMS電源作為可對標德國霍廷格(TRUMPF Hüttinger)同類型電源的產品，已為國內十多家真空鍍膜客戶提供了優(yōu)質服務，廣受好評。
